半导体行业中采用的清洁剂、显影剂、光刻技术、蚀刻液等有机溶剂中富含大量的有机化合物成份，在加工工艺流程中，这种有机溶液绝大多数根据蒸发变成废气排出。其废气的行为主体是VOCs，与此同时废气中还混和了HCl、氨、HF等风险污染物质，分离出来和解决难度系数非常大。下边我们为您详细介绍半导体废气处理方式：

半导体酸废气处理方式

半导体废气处理通常选用碱液态喷洒法，又被称为有机化学清洗法。因液态本身具备的融解特点，可以能够更好地捕获地基沉降，融解除去污染物质，而做到空气环保标准，故喷洒法是半导体行业强酸强碱废气整治广泛采取的关键解决方式。

新材料行业半导体废气处理的方式新材料行业与传统式材质对比，新材料产业具备技术性相对高度聚集，科学研究与开发设计资金投入高，商品的增加值高，生产制造与市面的国际强，及其运用覆盖面广，发展前途好等特性，其产品研发水准及产业发展经营规模已变成评判一个我国经济，社会经济发展，科技创新和国防安全整体实力的主要标示，世界各地尤其是资本主义国家都十分重视新材料产业的发展趋势。

做为新材料产业的象征之一，半导体加工工艺对操作间洁净度规定极高，通常应用离心风机提取加工工艺流程中蒸发的各种废气，因而半导体行业废气排出具备排量大、排出浓度值小的特性。这种废气排出关键可以分成四类：酸性气体、碱性气体、有机化学废气和有害气体。RTO储热式垃圾焚烧炉机器设备，通称“RTO机器设备”，是选用高溫毁坏焚烧处理的废气整治技术性。

选用的提温电力能源一般是电和天燃气，尽管选用高溫700℃的气温开展废气处理，但实际上耗费的电力能源并不是很多，这是由于机器设备可以将热量回收利用，大幅度降低基础代谢的一起增强了废气分子结构的燃烧化学反应速率。机器设备的行为主体由燃烧室、不锈钢填料床和变换阀等组成。机器设备的清洁高效率也保持平稳在99%以上。

半导体行业废气处理方式及其比照

半导体行业有机化学废气处理方式，通常先用沸石转轮对VOCs开展吸咐萃取以后，再用立即燃烧法开展消毁，废气净化处理率做到97%以上。立即燃烧又称之为立即火苗燃烧，它是把VOCs易燃组分立即烧毁，因而该方式适用净化处理易燃有危害组分浓度值较高的废气，或是净化处理有危害组分燃烧时发热量较高的废气；多种多样易燃气体或多种多样有机溶剂蒸汽混和在废气中，只需浓度值值适合，还可以立即燃烧。假如易燃组分的浓度值高过燃烧限制，可以渗入气体后燃烧；假如易燃组分的浓度值小于燃烧最低值，则可以添加一定数目的輔助然料如天燃气等，保持燃烧。